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摘要

Abstract

第一章 绪论

1.1 引言

1.2 电介质物理学基础

    1.2.1 介质的电极化响应

    1.2.2 自发极化、畴结构和缺陷

    1.2.3 电介质材料的基本性质

    1.2.4 电介质非线性光学理论

    1.2.5 电介质储能机理研究

1.3 集成光学研究

    1.3.1 光调制材料

    1.3.2 铌酸锂

    1.3.3 光开关

1.4 锆钛酸铅镧材料概述

    1.4.1 PLZT结构

    1.4.2 PLZT性质与应用

    1.4.3 PLZT研究现状

1.5 当前集成光学存在的问题

1.6 本文的研究内容与创新点

第二章 主要材料及表征手段

2.1 主要试剂与仪器

    2.1.1 主要试剂和耗材

    2.1.2 实验仪器设备

2.2 材料主要表征方法

    2.2.1 X-射线衍射分析

    2.2.2 扫描电子显微镜

    2.2.3 介电性能测试

    2.2.4 铁电性能测试

    2.2.5 紫外-可见光-近红外光谱测试

第三章 PLZT透明陶瓷的制备及其性能研究

3.1 引言

3.2 PLZT陶瓷的制备与测试方法

    3.2.1 PLZT透明陶瓷的制备

    3.2.2 透明陶瓷的性能表征方法

3.3 PLZT陶瓷的性能研究

    3.3.1 不同烧结方式下PLZT陶瓷的晶体结构

    3.3.2 烧结方式对PLZT陶瓷晶粒形貌与密度的影响

    3.3.3 烧结方式对PLZT陶瓷电学性能的影响

    3.3.4 烧结方式对PLZT陶瓷透明度的影响

    3.3.5 不同制粉方式所得粉体的晶体结构

    3.3.6 制粉方式对PLZT陶瓷形貌和密度的影响

    3.3.7 制粉方式对PLZT陶瓷电学性质的影响

    3.3.8 制粉方式对PLZT陶瓷透光性的影响

3.4 本章小结

第四章 等离子退火制备PLZT薄膜及其光学性质研究

4.1 引言

4.2 PLZT薄膜的制备与测试方法

    4.2.1 PLZT薄膜的制备

    4.2.2 PLZT光学薄膜性能表征方法

4.3 PLZT薄膜性能研究

    4.3.1 退火方式对PLZT薄膜结构影响

    4.3.2 退火方式对PLZT薄膜形貌的影响

    4.3.3 退火方式对PLZT铁电性能的影响

    4.3.4 退火方式对薄膜透光性的影响

    4.3.5 不同镧含量的PLZT薄膜的结构

    4.3.6 镧含量对PLZT薄膜铁电性能的影响

    4.3.7 镧含量对PLZT薄膜的光学性质影响

    4.3.8 PLZT光波导制备与插入损耗

    4.3.9 透光性的影响机制

4.4 本章小结

第五章 电光薄膜和光调制器的制备与性能研究

5.1 引言

5.2 PLZT电光薄膜的制备与测试方法

    5.2.1 PLZT电光薄膜的制备

    5.2.2 电光薄膜表征方法

5.3 PLZT电光薄膜的性能研究

    5.3.1 PLZT电光薄膜的制备

    5.3.2 镧含量对PLZT电光薄膜结构的影响

    5.3.3 镧含量对PLZT薄膜光学性质的影响

    5.3.4 镧含量对PLZT电光薄膜电学性质的影响

    5.3.5 二次电光系数测量系统改进

    5.3.6 PLZT电光调制器的制备与性能研究

    5.3.7 电光效应响应机制

5.4 本章小结

第六章 PLZT/PVDF复合薄膜的制备与储能性能研究

6.1 引言

6.2 PLZT/PVDF复合薄膜的制备与测试方法

    6.2.1 PLZT/PVDF复合材料的制备

    6.2.2 PLZT/PVDF复合材料的表征方法

6.3 PLZT/PVDF复合材料性能研究

    6.3.1 表面改性机理与击穿场强模拟计算原理

    6.3.2 填料体积分数对复合薄膜XRD的影响

    6.3.3 填料体积分数对复合薄膜电学性质的影响

    6.3.4 不同维度PLZT填料的制备

文章来源：《电光与控制》 网址: http://www.dgykzzz.cn/qikandaodu/2022/0131/553.html